設備紹介

その他の設備紹介

クリーンルーム

  • 半導体素材及び光学ガラスの洗浄工程において必要不可欠なクリーンルームです。クラスは、１００００、１０００となります。

純水製造装置

  • 超純水製造装置を設置しています。研磨品の加工、洗浄に使用します。

自動洗浄機

  • 自動洗浄機には最新技術である流水洗浄方式を採用。従来問題となっていた「落とした汚れがワークに再付着する」という問題をクリアしました。
  • 主に光学ガラス関係に使用。Φ１００mmまでのワークが投入可能です。
  • 自動洗浄機の出口は、クラス１００となっています。

真空梱包機

  • シリコン・石英の大型素材の梱包に使用します。
  • Φ450mmまでのワークが梱包可能です。

マイクロスコープ

  • 光学顕微鏡に比べて、被写界深度が深いため、表面状態をより立体的に観察することが可能です。
  • 画像合成処理により、対象物を3D表示することができます。

レーザーマーカー

  • YAGレーザーマーカーです。金属、樹脂のほか、シリコン、セラミックス、カーボン等に印字可能です。
  • 印字範囲は90mm×90mmです。
  • フォント（字体）は、自社でも作成可能です。お客様の、現在使用しているフォントに合わせて作成いたします。

薬液処理施設

  • 酸・アルカリによる薬液処理（エッチング、洗浄）が可能です。
  • 排気処理施設により、環境問題には万全の体制を整えています。

排水処理施設

  • 工場内に排水処理施設を完備し、工業排水は自社で浄化しています。浄化レベルは規定の数値を遵守しています。

フジセイコーの加工技術


1250mm×1000mm×1050
mmの大型ワークから微小ワークまで幅広く対応。

対象ワークの平行度や平坦度を、ミクロン単位で向上。

面取りや穴あけ、内径加工、円筒加工、外周研削、くり貫きなどの形状に対応。

微小サイズ～大口径品（ガラスΦ1600、シリコンΦ600まで）の鏡面研磨が可能。

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